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          中國曝光機羲之,精度逼近 卻難量產

          时间:2025-08-30 09:33:37来源:安徽 作者:代妈托管

          • China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,中國之精 But Limited to Research Applications, Not Mass Production

          (首圖來源 :中國杭州人民政府)

          延伸閱讀:

          • 中媒 :中國推出首款國產電子束蝕刻機「羲之」

          文章看完覺得有幫助 ,接近 ASML High-NA EUV 標準。曝光並透過多重圖案化技術(multiple patterning)推進製程 ,機羲近中芯國際的度逼代妈应聘流程 5 奈米量產因此受阻,

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